原子層沉積ALD在OLED方面的應用

        隨著顯示技術的發(fā)展，電致發(fā)光器件(Light Emitting Diode，LED)已成為當前極具發(fā)展前景的顯示，有著傳統(tǒng)顯示技術不可比擬的優(yōu)勢。其中有機電致發(fā)光器件(Organic Light Emitting Diode, OLED)因其輕薄、視角廣、響應時間短、發(fā)光效率高、成本低等優(yōu)點成為公認的新一代顯示技術。但是OLED器件對水和空氣極為敏感，為保證OLED器件的壽命，通常要求封裝材料的水汽透過率(WVTR)小于10^-6 g/(m²·day)。

     傳統(tǒng)的OLED封裝技術通常利用厚膜，甚至高分子聚合物/玻璃進行封裝，以達到預期的阻隔性能。這些傳統(tǒng)的封裝技術導致OLED保護層厚度增加，從而導致發(fā)光強度減弱。厚膜還會增加顯示器件的硬度，不適合用于彎曲或者折疊的顯示器。

      原子層沉積(Atomic Layer Deposition, ALD)技術是一種原子尺度的薄膜制備技術，沉積的薄膜均勻性好、材料致密、厚度精確可控且工藝溫度適中，是超高阻隔膜的理想制備方法，可完美兼容OLED器件的封裝，大大延長其壽命。

      幾十納米厚度的ALD封裝膜甚至可媲美傳統(tǒng)OLED封裝技術的阻隔效果，同時具有良好的透光率、熱導率、機械強度、耐腐蝕性及與基底的粘結性等性質；ALD封裝薄膜因其納米級的膜厚，可以實現(xiàn)很大程度上的彎曲并保持封裝效果不變，這一特性可完美兼容柔性OLED器件封裝，真正做到顯示屏的可折疊、卷曲；ALD薄膜優(yōu)異的保型性使其在一些復雜形貌和三維納米結構的LED表面實現(xiàn)出色的鈍化保護層，有效地起到阻隔水氧的作用，提高性能；用ALD在LED表面沉積鈍化膜還可以很好地修補被等離子刻蝕造成的破壞性表面，可有效降低漏電流，顯著提高LED效率。
 

圖一：在ITO-聚酯膜上制備的柔性OLED顯示單元
 

圖二：OLED封裝類型及不同柔性需求對應的水汽透過率